豊かな国民生活を創出する高度情報通信社会のハード面は、驚異的な発展を続ける半導体デバイスにより支えられている。 現在、半導体デバイスの量産プロセスは、ArFリソグラフィから液浸ArFリソグラフィへ展開し、その後は究極的なリソグラフィと期待される「EUVリソグラフィ」へと引き継がれるものと考えられている。 また、多様化する応用分野へ対応する超ファインパターン形成技術として「ナノインプリント」等の新しい技術が発展してきている。
「EUVリソグラフィ」のセッションでは、「超ファインパターン形成技術・材料の最前線」の全体像を材料メーカーや大学の研究者にも分かりやすく概説し、ArFリソグラフィやEBリソグラフィにも共通する基礎的なコンセプトや計測手段等も含め系統的に紹介し、究極の半導体デバイスの量産に必要な材料・プロセスについて幅広く議論する場を提供したい。
「ナノインプリント」のセッションでは、半導体デバイスの量産プロセスとは異なる超ファインパターン形成技術・材料の技術の概要とナノインプリントが期待される幅広い応用例について紹介する。 特に、ナノインプリント材料・プロセスの課題と研究開発の最前線、商品化が始まった装置、実際に使われている利用例等を紹介し、本分野の現状と将来について活発に議論する場を提供したい。
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