日本化学会誌 (化学と工業化学)


--Nippon Kagaku Kaishi--
1996, No. 3, 3 月

Copyright by the Chemical Society of Japan


目次

--総 合 論 文--

セラミックス粒界の組成と電子状態
田中 滋・田中順三
217

--論   文--

1-メチル-2(1H)-ピリジンイミンとアルコール間のプロトン移動に関する赤外スペクトルによる考察
岩崎直也
225

ベンゼン,トリフェニレン及びコロネンの励起電子状態における静的 Jahn-Teller 効果
中山光宣・清水宏行・秋山定近・古村由幸・鐸木啓三・井早康正
231

油性汚れの洗浄機構におよぼす基質の影響
多賀谷久子・井上好美・東辻 健
241

ジヒドリドロジウム錯体によるスチレン同族体の水素化反応
亀田徳幸・三五令子
246

Pd(OAc)2-ビス(ジフェニルホスフィノ)アルカン系触媒を用いたアリルアルコールによるアミンのアリル化反応
曲 景平・石村善正・大江孝美・永戸伸幸
250

Pd(OAc)2-ビス(ジフェニルホスフィノ)アルカン系触媒を用いたアリルアルコールによるアミドおよびスルホンアミド化合物のN-アリル化反応
曲 景平・石村善正・永戸伸幸
256

酸化クロムと非晶質ホウ素粉末の反応による CrB 単結晶の生成
岡田 繁・飯泉清賢・荻野智之・久高克也・工藤邦男
260

N-フェニルマレイミドの工業的反応方法
喜多裕一・岸野和夫・中川浩一
264

N-フェニルマレイミドの合成用担持触媒
喜多裕一・岸野和夫・中川浩一
269

第三級アルキル基質を用いたエーテル類の不均一系新規 Williamson 合成法
政田浩光・土井靖夫・三口史雄・木越敬子
275

Chemical Bath 法による銅添加硫化カドミウム薄膜の合成とその電気特性
山本 修・笹本 忠・稲垣道夫
283

--技 術 論 文--

ゼオライト触媒によるホルマリン水溶液からのトリオキサン合成反応
石田 浩・赤岸賢治
290

--ノ ー ト--

銀粒子に吸着した 2,2'-ビピリジンの表面増強赤外吸収スペクトル
大江純男
298

シランカップリング剤修飾シリカ担持ヘテロポリモリブドリン酸触媒によるイソ酪酸の酸化的脱水素反応
鎌田正彦・古南 博・計良善也
300

HZSM-5 ゼオライトの脱アルミニウム速度に及ぼす水蒸気分圧の影響
岩見吉博・佐野庸治・川上雄資
303

高重合度をもつ多核ヒドロキソアルミニウムイオンと膨潤性合成フッ素雲母との複合体生成
山口朋浩・藤田隆之・田草川信雄・北島圀夫
307

ウレタンプレポリマーの GPC, DSC,粘度法および FT-IR によるキャラクタリゼーション
松永勝治・遠山光雄・菅原栄一・近江 誠
311

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